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高精密光刻版、铬版(可定制)

光刻版作为微纳器件制造的核心工艺载体,通过材料、工艺与设备的协同创新,突破了传统光刻技术的局限性,在显示、光伏、成像等领域展现出显著优势。不锈钢、钼等金属掩膜版加工精度达±20μm,支持蒸镀、光刻等工艺,实现定制化生产。