PEDOT使用方法

在实验室中，旋涂是将Clevios导电聚合物沉积为一道薄涂层的常见方式。接下来将对Clevios导电聚合物的旋涂工艺进行详细介绍：

通过旋涂工艺沉积到氧化铟锡(ITO)玻璃表面的ClevioSTM P导电聚合物涂层的厚度由以下几个参数确定：

■旋转速度

■加速度

■旋转时间

■旋涂器的设计

■基材尺寸和表面

■基材表面预处理的质量

氧化铟锡(ITO)玻璃的预处理对于CleviosTM P导电聚合物能否在该基材表面均匀分散影响极大。因此，并没有通用的规则来确定旋转速度与涂层厚度之间的关系。为了描绘出典型的旋转-厚度示例曲线，我们将各种ClevioSTM P系列的导电聚合物旋涂在涂有氧化铟锡(ITO)的玻璃基材表面。结果在旋涂机(带3”Gyrset罩的Carl Suss®RC 8)上显示。首先将尺寸为50 mm x50 mm的涂有氧化铟锡(ITO)的玻璃基材采用湿洗法洗净，然后将其表面置于紫外线/臭氧腔室中进行活化处理，时间为15分钟。通过Pasteur移液管将约1-2毫升的CleviosTM P系列导电聚合物沉积到玻璃基材表面。进行旋涂工艺前，手动将该聚合物分散体分散到整个基材表面。

旋涂工艺结束后，将湿膜置于加热板上进行热风烘烤。推荐的烘烤温度和烘烤时间：CleviosTM PAl4083、ClevioSTM PCH8000等电子产品用导电聚合物及ClevioSTM HIL系列：在200℃的温度下烘烤5分钟；ClevioSTMPH 1000、CleviosTM HIL-E、CleviosTM F ET或CleviosTM HIL8等高导电性产品：在130℃的温度下烘烤15分钟。

其他提示：

■如果CleviosTM P分散体在涂覆过程中出现湿润现象，可在其中加入不超过10%(重量比)的异丙醇。此外，加入表面活性剂也能改善润湿性，尤其是在疏水表面。

■在OLED应用中，ClevioSTM P导电聚合物的涂层厚度通常在50-80nm之间。涂层厚度应通过实验不断进行优化，以实现最佳的透过率和成膜质量。如有需要，CleviosTM HIL系列大多数产品都可提供n数据和k数据。

■所有剩余/未使用的分散体在涂覆结束后都应倒出设备，以避免干燥后的分散体造成腐蚀和进一步的颗粒污染。

Clevios导电聚合物的过滤

在将CleviosTM分散体沉积到基材表面之前，建议对其进行过滤，以便除去残胶或烘干的颗粒物。使用以下设备可获得良好的过滤效果：

■材料量较少(低于10毫升，实验室规模):配备0.2-5μm Millex 25亲水性聚偏氟乙烯(PVDF)滤膜(不建议使用聚四氟乙烯(PTFE)滤膜)的注射过滤器

■材料量中等(低于1升):配备Sartorius 0.45μm醋酸纤维素过滤器(直径47毫米)的压力腔室

■材料量较大：颇尔(Pall)烛式过滤器UItipore N66(0.2μm)

ClevioSTM分散体一旦被烘干，便很难再次进行分散。溶液中颗粒物干燥后会附着在过滤器上。因此，注射器和过滤器仅可使用一次。此外，将CleviosTM分散体从瓶中倒出时，应当正好倒出所需的量，避免将未使用的产品重新倒回瓶中。

CleviosTM导电聚合物的干燥

CleviosTM导电聚合物涂层需要在加热环境下完全干燥。干燥之后，ClevioSTM导电聚合物涂层便可投入使用，无需再进行退火处理或后处理。

干燥工艺可在普通的实验室热风对流式加热炉中进行。标准干燥条件：稳定的PET薄膜基材，温度120℃到130℃,干燥时间3到15分钟。根据涂层厚度和ClevioSTM产品种类不同，干燥时间还可以大幅缩短。尽管涂层在80℃左右的温度下便能有效干燥，但所需干燥时间会更长。

ClevioSTM导电聚合物涂层高效的干燥方式是使用红外线。贺利氏特种光源可根据干燥要求提供最理想的定制化解决方案。

基材的处理

在沉积CleviosTM导电聚合物前对基材进行的预处理干净、尤其是不含油脂的表面是确保CleviosTM导电聚合物涂层均匀沉积在玻璃基材、透明氧化层(TCO)或塑料薄膜表面的先决条件。

采用湿洗法清洁玻璃或TCO基材的步骤：

■使用无绒纸巾和丙酮溶剂擦拭基材，以清除划割时粘附的玻璃颗粒

■在60℃的温度下，将基材置于含普通玻璃清洗剂(如3%Mucasol⑧,德国Kalle公司)的去离子水中，使用超声波清洗10分钟

■使用去离子水彻底冲洗

■在60°℃的温度下，将基材置于去离子水中，使用超声波清洗10分钟

■使用去离子水彻底冲洗

■将基材置于乙醇溶剂中，使用超声波清洗5分钟

■使用去离子水彻底冲洗

■在40℃的温度下，将基材置于丙酮溶剂中，使用超声波清洗5分钟

应重复以上清洗步骤直到基材表面不含任何浑浊杂质。用于清洗基板的所有溶剂都应符合PA质量。

通过等离子体、紫外线/臭氧或电晕放电工艺对表面进行活化处理，可以显著改善CleviosTM导电聚合物在玻璃TCO和PET薄膜等各种基材表面的水滴角。